玻璃基板由CF和TFT组成，如图所示：1。

主要清洗TFT阵列基板中形成TFT阵列的工艺，形成膜，然后形成黄色板，然后蚀刻使用该过程形成所需图案，然后形成光。

罩的数量用作回收过程。

在该循环过程中，首先将清洁后的玻璃基板送至溅射机以镀覆金属层，然后使用黄光和蚀刻工艺形成栅极，区域图案和后玻璃。

通过光致抗蚀剂洗涤基板，然后通过等离子体辅助化学相沉积机在薄膜区域中形成活性区域。

经过一系列的合作，在薄膜区域的Yangtai上形成TFT区域保护层。

拐角也被打孔，然后溅射一层氧化镧膜（ITO），然后使用黄色区域和蚀刻区域工艺来形成像素区域图案。

TFT蚀刻工艺是循环工艺的主要步骤。

TFT的结构是栅极，源极和漏极沉积的顺序可以大致分为四类。

如图所示，目前生产的大多数TFT主要是倒置堆叠结构，由于其结构简单，工艺简单，被TFT制造商广泛使用。

由于工艺上的不同，它分为：1）蚀刻背沟道中的TFT，2）在TFT之后蚀刻TFT或重新参考作为三层结构的TFT。

制造工艺的关键步骤是在沟道末端蚀刻N型非晶锗以形成栅极可控沟道，这通常是干蚀刻，并且漏电流的原因可能导致材料留在后沟道中当它被记为干鹿。

2. TFT-LCD的形成阶段完全在TFT-LCD玻璃中完成。

经过这个过程，它与另一个带有红色，绿色和蓝色滤色膜的玻璃相结合，首先匹配薄膜刷，对准处理，隔离涂层和上框胶，然后两块玻璃上下密封组，切割扩口边缘有角度，清洁，然后液晶注入和密封。

最后，进行目视检查和电气测量。

最重要的步骤如下：1。

目前使用的对准处理方法是刷涂处理，主要是在法兰绒刷研磨后缠绕在金属辊上的取向膜，使液晶分子可以指向某个方向提前。

2.间隔物的目的是获得均匀的液晶厚度，并且分散体的密度可以很高。

获得更均匀的CELL GAP，如果垫片有漏光，则会降低质量。

相反，间隔物的分散度越低，CELL GAP就越少，质量也会受到影响。

因此，均匀地铺展垫片是非常重要的。

该方法更容易控制密度。

必须首先撒上垫片，然后在胶合框架后密封CF和TFT。

3.用TFT和CF的密封组合切割面板，然后用超硬钢刀切割。

滚子切割和压裂方法获得每个面板。

后来，随着外观，模块的尺寸和形状，窄边框，发展变薄，超硬钢刀不能满足要求，以及后来激光切割的方式。

4，液晶注入我将机架与外框固定在一起，当液晶通过直接方法注入液晶时，应注意避免间隔破裂和垫片堆积。

）II首先让CELL内部真空将CELL的液晶注入口浸入液晶盒中，然后使用氮气打破真空。

内部和外部压力差和毛细管将使液晶注入CELL内部。

当注入液晶时，布置形状和排列。

当液晶颗粒大时，两片玻璃在压制时破裂。

间隔物聚集：当注入液晶时，液晶具有大小颗粒。

由于液晶太小，它将在中间凹槽中滚动，并且几个部分一起形成。

Spacer收集。

5.目视检查和电气测量液晶CELL项目的主要检查是液晶注入，初始照明检查和最终检查后的对准检查。

这些检查都是在视觉上进行的。

3.LCD模块形成阶段模块工艺包括配合晶圆玻璃基板，可燃印刷电路，压制，密封，外壳和背光组件的连接和检测。

1.高分辨率2，高亮度3，宽视角4，低功耗5低制造成本