受美国的阻碍和新的王冠流行的影响，中国公司从ASML订购的EUV光刻机已延迟交付。

今天，中国公司有望在其他供应商中找到转折点。

近四个月后，晶锐公司出资1102.5万美元（约合7129万元人民币）从韩国代理商SKHynix购买了一台二手ASML浸没式光刻机（XT1900Gi）。

据报道，该公司预计将在2021年上半年完成设备的安装和调试，以开发最大分辨率为28nm的高端光刻胶;并期望在3年内完成ArF光刻胶产品的相关技术参数和产品规格，以实现化学生产规模。

所谓的光致抗蚀剂是对光敏感的有机化合物，其主要用于芯片制造中的微图案的加工中。

据经瑞股份有限公司董事长吴天舒介绍，该设备有助于解决“卡脖子”的问题。

我国集成电路制造领域的关键材料的研究。

光致抗蚀剂成功开发后，还将为制造国产12英寸芯片提供重要材料。

尽管光致抗蚀剂研发的难度比光刻机要少，但在核心材料方面，我国仍然需要从国外进口。

当前的全球光刻胶市场基本上由欧盟和日本等几家大公司垄断。

在关键材料领域，Shin-Etsu Chemical，合成橡胶和Fujifilm等日本公司占据主导地位。

因此，近年来，我国也一直试图打破日本在光致抗蚀剂领域的垄断。

近年来，京瑞，南大光电和上海信阳等中国公司已进入市场。

南大光电发布公告称，公司开发的ArF光刻胶产品已通过客户认证，标志着中国国内首款国产ArF光刻胶的诞生。

除了加速中国公司的进入，“国家团队”还包括还致力于帮助该领域的发展。

去年9月，在华为被停职一天之后，中国科学院院长白春丽表示，他将把美国的“棘手名单”转变为“困境”。

纳入我国的科研任务清单，以布局，并集中整个研究所克服困难的力量。